快速退火工艺
的有关信息介绍如下:RTP(Rapid Thermal Processing)快速热处理,是在非常短的时间内将整个硅片加热至400~1300℃温度范围内的一种方法,相对于炉管退火,它具有热预算少,硅中杂质运动小,玷污小和加工时间短等特点。
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RTP(Rapid Thermal Processing)快速热处理,是在非常短的时间内将整个硅片加热至400~1300℃温度范围内的一种方法,相对于炉管退火,它具有热预算少,硅中杂质运动小,玷污小和加工时间短等特点。
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